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連續(xù)式高剪切膠體磨
連續(xù)式膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GM2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
連續(xù)式膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品。
一、設(shè)備定義與核心定位
研磨系統(tǒng)：作為設(shè)備核心，由定子與轉(zhuǎn)子組成。定子內(nèi)壁與轉(zhuǎn)子外壁均設(shè)有精密溝槽（常見直線槽、斜齒槽或曲線槽），溝槽深度、齒形角度根據(jù)處理物料特性設(shè)計(jì)，通過兩者高速相對運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)剪切力；部分gao端設(shè)備采用三級或多級研磨結(jié)構(gòu)，可逐步提升物料細(xì)化程度。
進(jìn)料與出料系統(tǒng)：進(jìn)料口通常配備穩(wěn)流裝置，避免物料沖擊導(dǎo)致的研磨不均；出料口可連接管道或儲料罐，支持與生產(chǎn)線其他設(shè)備聯(lián)動，確保連續(xù)作業(yè)流程順暢，部分設(shè)備可根據(jù)需求調(diào)節(jié)出料壓力與速度。
傳動系統(tǒng)：由電機(jī)、皮帶或齒輪傳動組件構(gòu)成，為轉(zhuǎn)子提供穩(wěn)定動力。優(yōu)質(zhì)設(shè)備會搭配高精度軸承，保障高速運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的穩(wěn)定性，部分型號支持變頻調(diào)速，可根據(jù)物料特性調(diào)整轉(zhuǎn)速。
密封系統(tǒng)：多采用機(jī)械密封（單密封或雙密封），防止物料泄漏污染環(huán)境或滲入電機(jī)燒毀部件；醫(yī)藥、食品級設(shè)備的密封材質(zhì)需符合 GMP 標(biāo)準(zhǔn)，確保與物料接觸部分無毒、耐腐且易清潔。
控溫系統(tǒng)：部分設(shè)備配備冷卻夾套或散熱結(jié)構(gòu)，因高速研磨易產(chǎn)生熱量，控溫系統(tǒng)可避免物料因高溫變性，尤其適配熱敏性物料（如醫(yī)藥中間體、食品漿料）的處理。
三、工作原理
連續(xù)式高剪切膠體磨設(shè)備選型表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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